詳細(xì)內(nèi)容

 性能特點(diǎn)

金屬鍍層測(cè)厚分析儀滿(mǎn)足各種不同厚度樣品以及不規(guī)則表面樣品的測(cè)試需求
φ0.1mm的小孔準(zhǔn)直器可以滿(mǎn)足微小測(cè)試點(diǎn)的需求
高精度移動(dòng)平臺(tái)可精確定位測(cè)試點(diǎn)，重復(fù)定位精度小于0.005mm
采用高度定位激光，可自動(dòng)定位測(cè)試高度
定位激光確定定位光斑，確保測(cè)試點(diǎn)與光斑對(duì)齊
鼠標(biāo)可控制移動(dòng)平臺(tái)，鼠標(biāo)點(diǎn)擊的位置就是被測(cè)點(diǎn)
高分辨率探頭使分析結(jié)果更加精準(zhǔn)
良好的射線屏蔽作用
測(cè)試口高度敏感性傳感器保護(hù)

技術(shù)指標(biāo)

型號(hào)：Thick 800A金屬鍍層測(cè)厚分析儀
元素分析范圍從硫(S)到鈾（U）。
同時(shí)可以分析30種以上元素，五層鍍層。
金屬鍍層測(cè)厚分析儀分析含量一般為ppm到99.9% 。
鍍層厚度一般在50μm以?xún)?nèi)（每種材料有所不同）
任意多個(gè)可選擇的分析和識(shí)別模型。
相互獨(dú)立的基體效應(yīng)校正模型。
多變量非線性回收程序
度適應(yīng)范圍為15℃至30℃。
電源: 交流220V±5V, 建議配置交流凈化穩(wěn)壓電源。
外觀尺寸： 576(W)×495(D)×545(H) mm
樣品室尺寸：500(W)×350(D)×140(H) mm
重量：90kg

原理

金屬鍍層測(cè)厚分析儀原理是根據(jù)X射線穿透被測(cè)物時(shí)的強(qiáng)度衰減來(lái)進(jìn)行轉(zhuǎn)換測(cè)量厚度的，即測(cè)量被測(cè)鋼板所吸收的X射線量，根據(jù)該X射線的能量值，確定被測(cè)件的厚度。由X射線探測(cè)頭將接收到的信號(hào)轉(zhuǎn)換為電信號(hào)，經(jīng)過(guò)前置放大器放大，再由測(cè)厚儀操作系統(tǒng)轉(zhuǎn)換為顯示給人們以直觀的實(shí)際厚度信號(hào)。
X射線源輻射強(qiáng)度的大小，與X射線管的發(fā)射強(qiáng)度和被測(cè)鋼板所吸收的X射線強(qiáng)度相關(guān)。一個(gè)在系統(tǒng)量程范圍內(nèi)的給定厚度，為了確定其所需的X射線能量值，可利用M215型X射線檢測(cè)儀進(jìn)行校準(zhǔn)。在檢測(cè)任一特殊厚度時(shí)，系統(tǒng)將設(shè)定X射線的能量值，使檢測(cè)能夠順利完成。
金屬鍍層測(cè)厚分析儀在厚度一定的情況下，X射線的能量值為常量。當(dāng)安全快門(mén)打開(kāi)，X射線將從X射線源和探頭之間的被測(cè)鋼板中通過(guò)，被測(cè)鋼板將一部分能量吸收，剩余的X射線被位于X射線源正上方的探頭接收，探頭將所接收的X射線轉(zhuǎn)換為與之大小相關(guān)的輸出電壓。如果改變被測(cè)鋼板的厚度，則所吸收的X射線量也將改變，這將使探頭所接收的X射線量發(fā)生變化，檢測(cè)信號(hào)也隨之發(fā)生相應(yīng)的變化。
金屬鍍層測(cè)厚分析儀按射線源的種類(lèi)可分為X射線測(cè)厚儀與核輻射線測(cè)厚儀兩類(lèi)，而后者又可多r射線測(cè)厚儀與 射線測(cè)厚儀。按射線與被測(cè)板材的作用方式，又可分為穿透式和反射式。
金屬鍍層測(cè)厚分析儀是利用射線與物質(zhì)相互作用時(shí)，為物質(zhì)所吸收或散射的效應(yīng)來(lái)進(jìn)行測(cè)量的一種儀表。其主要特點(diǎn)：
(1)可進(jìn)行連續(xù)和不接觸地測(cè)量；
(2)測(cè)量精度較高；
(3)反應(yīng)速度較快；
(4)能夠給出供濕示、記錄與控制的電信號(hào)，易于實(shí)現(xiàn)生產(chǎn)自動(dòng)化。

標(biāo)準(zhǔn)配置

開(kāi)放式樣品腔。
精密二維移動(dòng)樣品平臺(tái)，探測(cè)器和X光管上下可動(dòng)，實(shí)現(xiàn)三維移動(dòng)。
雙激光定位裝置。
鉛玻璃屏蔽罩。
Si-Pin探測(cè)器。
信號(hào)檢測(cè)電子電路。
高低壓電源。
X光管。
金屬鍍層測(cè)厚分析儀高度傳感器
保護(hù)傳感器
計(jì)算機(jī)及噴墨打印機(jī)